Внутренняя страница

Установка магнетронного распыления с тремя мишенями для нанесения покрытий на подложки и пластины

1. Система подготовки тонкопленочных батарей с перчаточным боксом оснащена тремя мишенными пистолетами, а соответствующий источник питания ВЧ может быть подключен к любой мишенной головке через преобразовательный переключатель, который используется для распыления покрытий на мишени из различных материалов (мишень может быть заменена в любое время в соответствии с потребностями заказчика).
2. Система подготовки тонкопленочных аккумуляторных батарей с вещевым ящиком позволяет изготавливать различные тонкие пленки и широко используется.
3. Система подготовки тонкопленочных аккумуляторов с вещевым ящиком имеет небольшие размеры и очень проста в эксплуатации.

  • Shenyang Kejing
  • Шэньян, Китай
  • 10 рабочих дней
  • 50 комплектов
  • Информация

Внедрение компактной установки плазменного напыления:

Система подготовки тонкопленочных аккумуляторов ВГБ-600-3HD с перчаточным боксом может использоваться для экспериментальной работы в перчаточном боксе и используется для подготовки однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих тонких пленок, тонких пленок сплавов, тонких полупроводниковых тонких пленок, керамических тонких пленок, тонких диэлектрических тонких пленок, оптических тонких пленок, тонких оксидных пленок, тонких твердых пленок, тонких пленок политетрафторэтилена и т.д. Компактная установка плазменного напыления оснащена тремя мишенными пушками, а соответствующий источник питания ВЧ может быть подключен к любой головке мишени через преобразователь, что используется для распыления покрытий на мишени из различных материалов. По сравнению с аналогичным оборудованием, компактная установка плазменного напыления не только широко используется, но и обладает преимуществами небольших размеров и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для лабораторной подготовки пленок материалов. Компактная установка плазменного напыления особенно подходит для лабораторных исследований тонкопленочных аккумуляторов, твердых электролитов и органических светодиодов (OLED). По сравнению с обычным магнетронным распылением, она может использоваться для экспериментов по нанесению покрытий на мишени из лития и мишени из материалов на основе лития. Это идеальное оборудование для лабораторных экспериментов по нанесению покрытий в новой энергетической отрасли.

Compact plasma sputtering coater


Преимущества установки высокочастотного магнетронного распыления с тремя мишенями:

1. Оснащен тремя распыляемыми мишенями, один источник ВЧ-питания может быть подключен к любой мишенной головке с помощью переключателя передачи, что позволяет осуществлять распыление различных материалов мишеней (пушки-мишени можно заменять в соответствии с требованиями пользователя).

2. Возможность изготовления множества типов тонких пленок с широким спектром применения.

3. Компактный размер и простота эксплуатации.

4. Вся система имеет модульную конструкцию — вакуумная камера, вакуумный насосный блок и блок питания управления разделены независимо, что обеспечивает гибкую конфигурацию в соответствии с требованиями пользователя.

5. Пользователи могут выбирать конфигурацию источника питания в зависимости от фактических потребностей — либо один источник питания, управляющий несколькими целями, либо несколько источников питания, независимо управляющих каждой целью (опционально).

6. Систему можно эксплуатировать внутри перчаточного бокса для осаждения с использованием различных чувствительных к окислению целевых материалов.

Технические параметры компактной установки плазменного напыления:

Название продуктаКомпактная установка плазменного напыления ВГБ-600-3HD
Модель продуктаВГБ-600-3HD
Основные параметры

Участок магнетронного распыления с тремя мишенями:

1. Напряжение питания: 220В 50Гц.

2. Общая мощность: 2,5 кВт.

3. Предельный вакуум: < E-6 мбар (может достигать E-3 мбар при использовании с механическим насосным оборудованием нашей компании).

4. Рабочая температура: РТ-500℃, точность ±1℃ (температуру можно увеличивать в соответствии с фактическими потребностями).

5. Количество орудий-мишеней: 3.

6. Метод охлаждения прицельной пушки: водяное охлаждение.

7. Размер цели: Ø2″, толщина 0,1–5 мм (толщина варьируется в зависимости от материала цели).

8. Мощность распыления: 300 Вт (РФ)/500 Вт (округ Колумбия).

9. Держатель образца: Ø140 мм.

10. Скорость перемещения образца: регулируется в пределах 1–20 об/мин.

11. Защитный газ: инертный газ, такой как Ар и N2.2.

12. Входной газовый тракт: массовый расходомер контролирует 2 входных тракта, один поток составляет 100 СККМ, а другой поток — 200 СККМ.

Гчасть любовной коробки:

1. Электропитание: однофазное переменное напряжение 110–220 В, частота 50–60 Гц.

2. Материал корпуса: нержавеющая сталь 304.

3. Отделение вещевого ящика: 1220 мм×760 мм×900 мм.

4. Камера предварительного нагрева: имеется 2 камеры предварительного нагрева, большая камера предварительного нагрева имеет размеры Ø360 мм × 600 мм, а малая камера предварительного нагрева имеет размеры Ø150 мм × 300 мм.

5. Окружающая среда камеры: содержание воды <1ppm (20℃, 1атм), содержание кислорода <1ppm (20℃, 1атм).

6. Рабочий газ: инертный газ, например N2.2, Ар, Он.

7. Управляющий газ: сжатый воздух или инертный газ.

8. Восстановительный газ: смесь рабочего газа и H2(если система очистки имеет функцию только удаления воды, то восстановительный газ тот же, что и рабочий газ).

9. Система очистки газа: немецкие раскисляющие материалы БАСФ, американские водопоглощающие материалы УОП, автоматическое управление процессом регенерации системы очистки, автоматические функции дегидратации и раскисления, что позволяет поддерживать чистоту газа при содержании воды <1 ppm и кислорода <1 ppm в течение длительного времени.

10. Система регулирования давления: Давление воздуха в полости может автоматически регулироваться с помощью сенсорного экрана ПЛК с точностью регулирования ±1 Па, а также может регулироваться вручную с помощью ножного переключателя.

11. Система фильтрации: Фильтры установлены на входном и выходном концах с точностью фильтрации 0,3 мкм.

12. Система управления: цветной сенсорный экран СИМЕНС (6 дюймов), система управления ПЛК, переключение на китайский и английский языки;

Водный зонд изготовлен под американской маркой GE, сенсорный экран 0-1000 частей на миллион, точность 0,1 частей на миллион;

Датчик кислорода изготовлен по американской марке Все права защищены, сенсорный экран 0-1000 частей на миллион, точность 0,1 частей на миллион;

Датчик давления изготовлен американской маркой Сетра, имеет сенсорный экран -2500-2500 Па и точность ±1 Па;

13. Вакуумный насос: британская марка Эдвардс, скорость откачки 8,4 м3/ч-12м3/час.

14. Перчатки: бутиловый синтетический каучук американской марки СЕВЕР.

15. Система освещения: люминесцентные лампы марки Филипс.

Технические характеристики продукта

· Участок магнетронного распыления с тремя мишенями: 950 мм×460 мм×810 мм.

· Часть вещевого ящика: 2300 мм×1500 мм×1900 мм.


Приверженность качеству трех целей установки высокочастотного магнетронного распыления:

Наша компания гарантирует, что предоставленная компактная плазменная установка для нанесения покрытий является новой и неиспользованной, полностью соответствует требованиям к качеству, техническим характеристикам и эксплуатационным характеристикам, указанным в договоре, а наша система подготовки тонкопленочных аккумуляторов с перчаточным боксом может нормально работать при правильной установке, условиях правильной эксплуатации и обслуживания в течение всего срока службы.


Гарантия:

Ограниченная гарантия сроком на один год, пожизненная поддержка (за исключением деталей, заржавевших из-за неправильных условий хранения)


Наши услуги:

Наша продукция пользуется признанием у многих клиентов благодаря своей превосходной производительности, стабильному качеству и долговечности. Наша профессиональная техническая команда готова предоставить клиентам полный спектр услуг, включая выбор продукции, установку и наладку, а также обучение эксплуатации. Какие бы проблемы вы ни столкнулись в процессе эксплуатации, мы стремимся предложить вам своевременные и эффективные решения для обеспечения эффективной и стабильной работы вашей производственной линии.

Three targets RF magnetron sputtering coater


О нас:

Недавно наш округ в Сингапуре принял участие в выставке Азия Фотоника Экспо (Обезьяна 2025), где мы представили наши шлифовальные и полировальные станки, машины для нанесения покрытий и другую продукцию. После подробного ознакомления с продукцией многие клиенты высоко оценили наше оборудование и выразили желание сотрудничать с нами.

Thin film battery preparation system with glove box

Compact plasma sputtering coater

Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.