Внутренняя страница

Установка магнетронного распыления с тремя мишенями для нанесения покрытий на подложки и пластины

1. Система подготовки тонкопленочных батарей с перчаточным боксом оснащена тремя мишенными пистолетами, а соответствующий источник питания ВЧ может быть подключен к любой мишенной головке через преобразовательный переключатель, который используется для распыления покрытий на мишени из различных материалов (мишень может быть заменена в любое время в соответствии с потребностями заказчика).
2. Система подготовки тонкопленочных аккумуляторов с перчаточным боксом позволяет изготавливать различные тонкие пленки и широко используется.
3. Система подготовки тонкопленочных аккумуляторов с перчаточным ящиком имеет небольшие размеры и очень проста в эксплуатации.

  • Shenyang Kejing
  • Шэньян, Китай
  • 10 рабочих дней
  • 50 комплектов
  • Информация

Внедрение компактной установки плазменного напыления:

Система подготовки тонкопленочных батарей ВГБ-600-3HD с перчаточным боксом может использоваться для экспериментальной работы в перчаточном боксе и используется для подготовки однослойных или многослойных сегнетоэлектрических тонких пленок, проводящих тонких пленок, сплавных тонких пленок, полупроводниковых тонких пленок, керамических тонких пленок, диэлектрических тонких пленок, оптических тонких пленок, оксидных тонких пленок, твердых тонких пленок, политетрафторэтиленовых тонких пленок и т. д. Компактная установка плазменного напыления оснащена тремя мишенными пушками, а соответствующий источник питания РФ может быть подключен к любой головке мишени через преобразовательный переключатель, который используется для распыления покрытий различных материалов мишеней. По сравнению с аналогичным оборудованием компактная установка плазменного напыления не только широко используется, но и имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для лабораторной подготовки пленок материалов. Компактная установка плазменного напыления особенно подходит для лабораторных исследований тонкопленочных батарей, твердых электролитов и OLED. По сравнению с обычным магнетронным распылением ее можно использовать для экспериментов по нанесению покрытий на мишени Ли и мишени на основе лития. Это идеальное оборудование для лабораторных экспериментов по нанесению покрытий в новой энергетической отрасли.

Compact plasma sputtering coater


Преимущества установки высокочастотного магнетронного распыления с тремя мишенями:

1. Установка для нанесения покрытий методом высокочастотного магнетронного распыления с тремя мишенями имеет модульную конструкцию, а вакуумная камера, группа вакуумного насоса и блок питания управления разделены и могут регулироваться в соответствии с фактическими потребностями пользователей.

2. Три цели РФ магнетронного распыления покрытия могут выбирать источник питания в соответствии с фактическими потребностями пользователей. Один источник питания может управлять несколькими целевыми пушками, или несколько источников питания могут управлять одной целевой пушкой (опционально).

3. Установка для нанесения покрытий с тремя мишенями с ВЧ-магнетронным распылением может использоваться для экспериментальной работы в перчаточном боксе, а различные типы легко окисляемых материалов мишеней могут быть заменены для экспериментов по нанесению покрытий.


Технические параметры компактной установки плазменного напыления:

Название продуктаКомпактная установка плазменного напыления ВГБ-600-3HD
Модель продуктаВГБ-600-3HD
Основные параметры

Часть магнетронного распыления с тремя мишенями:

1. Напряжение электропитания: 220 В 50 Гц.

2. Общая мощность: 2,5 кВт.

3. Предельный вакуум: < E-6 мбар (может достигать E-3 мбар при использовании с механическим насосным оборудованием нашей компании).

4. Рабочая температура: РТ-500℃, точность ±1℃ (температуру можно увеличить в соответствии с фактическими потребностями).

5. Количество мишенных орудий: 3.

6. Метод охлаждения прицельной пушки: водяное охлаждение.

7. Размер мишени: Ø2″, толщина 0,1–5 мм (толщина варьируется в зависимости от материала мишени).

8. Мощность распыления: 300 Вт (РЧ)/500 Вт (Пост).

9. Держатель образца: Ø140 мм.

10. Скорость движения образца: регулируется в пределах от 1 до 20 об/мин.

11. Защитный газ: инертный газ, такой как Ар и N2.

12. Входной газовый тракт: массовый расходомер контролирует 2 входных тракта, один поток составляет 100 СККМ, а другой поток — 200 СККМ.

Гчасть любовной коробки:

1. Электропитание: однофазное переменное напряжение 110–220 В, частота 50 Гц/60 Гц.

2. Материал корпуса: нержавеющая сталь 304.

3. Перчаточный ящик: 1220 мм×760 мм×900 мм.

4. Камера предварительного нагрева: имеется 2 камеры предварительного нагрева, большая камера предварительного нагрева имеет размеры Ø360 мм × 600 мм, а малая камера предварительного нагрева имеет размеры Ø150 мм × 300 мм.

5. Окружающая среда камеры: содержание воды <1ppm (20℃, 1атм), содержание кислорода <1ppm (20℃, 1атм).

6. Рабочий газ: инертный газ, такой как N2, Ар, Он.

7. Управляющий газ: сжатый воздух или инертный газ.

8. Восстановительный газ: смесь рабочего газа и H2 (если система очистки имеет функцию только удаления воды, то восстановительный газ тот же, что и рабочий газ).

9. Система очистки газа: немецкие раскисляющие материалы БАСФ, американские водопоглощающие материалы УОП, автоматическое управление процессом регенерации системы очистки, автоматические функции дегидратации и дезоксидации, что позволяет поддерживать чистоту газа при содержании воды <1ppm и кислорода <1ppm в течение длительного времени.

10. Система контроля давления: давление воздуха в полости может автоматически контролироваться с помощью сенсорного экрана ПЛК с точностью регулирования ±1 Па, а также может контролироваться вручную с помощью ножного переключателя.

11. Система фильтрации: Фильтры установлены на входном и выходном концах с точностью фильтрации 0,3 мкм.

12. Система управления: цветной сенсорный экран СИМЕНС (6 дюймов), система управления ПЛК, переключение на китайский и английский языки;

Водный зонд изготовлен под американским брендом ГЭ, сенсорный экран 0-1000 частей на миллион, точность 0,1 частей на миллион;

Датчик кислорода изготовлен под американским брендом АИИ, имеет сенсорный экран с диапазоном измерения 0-1000 частей на миллион и точностью 0,1 частей на миллион;

Датчик давления американского бренда Сетра, -2500-2500 Па с сенсорным экраном, точность ±1 Па;

13. Вакуумный насос: британская марка ЭДВАРДС, скорость откачки 8,4-12 м3/ч.

14. Перчатки: бутиловый синтетический каучук американской марки СЕВЕР.

15. Система освещения: люминесцентная лампа марки Филипс.

Технические характеристики продукта

Участок магнетронного распыления с тремя мишенями: 950 мм×460 мм×810 мм.

Часть перчаточного ящика: 2300 мм×1500 мм×1900 мм.


Приверженность качеству трех целей установки высокочастотного магнетронного распыления:

Наша компания гарантирует, что предоставленная компактная установка плазменного напыления является новой и неиспользованной, полностью соответствует требованиям к качеству, техническим характеристикам и эксплуатационным характеристикам, указанным в договоре, а наша система подготовки тонкопленочных аккумуляторов с перчаточным боксом может нормально работать при правильной установке, условиях правильного использования и обслуживания и в течение всего срока службы.


Гарантия:

Ограниченная гарантия сроком на один год, пожизненная поддержка (за исключением деталей, заржавевших из-за неправильных условий хранения)


Наши услуги:

Наши продукты признаны многими клиентами за их превосходную производительность, стабильное качество и долговечность. У нас есть профессиональная техническая команда, которая может предоставить клиентам полный спектр сервисной поддержки, такой как выбор продукта, установка и ввод в эксплуатацию, а также обучение эксплуатации. Независимо от того, с какими проблемами вы столкнетесь во время использования, мы будем стремиться предоставить вам своевременные и эффективные решения, чтобы ваша производственная линия работала эффективно и стабильно.

Three targets RF magnetron sputtering coater


О нас:

Не так давно наш округ Сингапур принял участие в выставке Азия Фотоника Экспо (Обезьяна 2025), где мы представили наши шлифовальные и полировальные станки, машины для нанесения покрытий и другую продукцию. После подробного ознакомления с продукцией многие клиенты хвалили наше оборудование и выражали желание сотрудничать с нами.

Thin film battery preparation system with glove box

Compact plasma sputtering coater

Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.