Установка плазменного напыления с 3 источниками распыления
Трехголовочная установка магнетронного распыления ВТК-600-3HD — это новое оборудование для нанесения покрытий, разработанное нашей компанией, которое используется для подготовки однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок ПТФЭ и т. д. Трехголовочная установка магнетронного распыления ВТК-600-3HD оснащена тремя мишенными пушками, одним источником ВЧ-питания для напыления непроводящих материалов и двумя источниками постоянного тока для напыления проводящих материалов.
- Shenyang Kejing
- Шэньян, Китай
- 22 рабочих дня
- 50 комплектов
- Информация
Введение в продукт
ВТК-600-3HD – это высоковакуумная установка для осаждения тонких пленок, разработанная нашей компанией. Она предназначена для получения различных функциональных тонких пленок и обеспечивает высококачественное осаждение как однослойных, так и многослойных структур. Установка широко применяется для получения сегнетоэлектрических, проводящих, сплавных, полупроводниковых, керамических, диэлектрических, оптических, оксидных и твердых покрытий, а также пленок ПТФЭ.
ВТК-600-3HD оснащён тремя узлами распыляемых мишеней. Одна мишень подключена к ВЧ-источнику питания, подходящему для распыления непроводящих материалов, таких как оксиды и керамика, а две другие мишени питаются от источников постоянного тока для распыления проводящих материалов, таких как металлы. Такая конфигурация обеспечивает широкую совместимость с различными материалами.
По сравнению с аналогичными системами, эта модель отличается компактной конструкцией, рациональной структурой и удобством эксплуатации, а также превосходной многофункциональной интеграцией. Она особенно подходит для исследовательских лабораторий, занимающихся разработкой и изучением процессов создания новых систем материалов, таких как твердотельные электролиты и OLED-устройства. ВТК-600-3HD — идеальная система магнетронного распыления лабораторного масштаба для передовых исследований тонкоплёночных материалов.
Основные характеристики
1. Он оснащен тремя мишенными пушками, один источник питания ВЧ используется для напыления непроводящих материалов, а два источника питания постоянного тока используются для напыления проводящих материалов (мишенные пушки могут быть заменены в соответствии с потребностями заказчика).
2. Можно изготавливать разнообразные тонкие пленки с широким спектром применения.
3. Компактный размер и простота эксплуатации.
4. Модульная конструкция всей машины; раздельная/раздельная конструкция вакуумной камеры, группы вакуумных насосов и блока управления питанием, которую можно регулировать в соответствии с фактическими потребностями пользователей.
5. Источник питания можно выбрать в соответствии с реальными потребностями пользователя. Один источник питания может управлять несколькими мишенями, или несколько источников питания могут управлять одной мишенью.
ТТехнические параметры
Название продукта | ВТК-600-3HD Трехголовочный магнетронный распылитель | ||
Модель продукта | ВТК-600-3HD | ||
| Условия установки | 1. Окружающая среда: температура окружающей среды: 25°C ±15°C; влажность: ≤55% ±10% относительной влажности. Окружающая среда должна быть сухой, без пыли и горючих или взрывоопасных газов. 2. Водоснабжение: Оснащено самоциркуляционным охладителем КДж-5000, использующим очищенную или деионизированную воду. 3. Электропитание: однофазное переменный ток 220 В, 50 Гц, 10 А, с автоматическим выключателем на 16 А, установленным на передней панели. 4. Требования к газу: требуется аргон (чистота ≥99,99%). Необходимо подготовить баллон с аргоном, оснащенный фитингом с двойным обжимным кольцом диаметром 6 мм и регулятором давления. 5. Требования к рабочему столу: рекомендуется устойчивый рабочий стол размерами Д1300 мм × Ш750 мм × В700 мм и грузоподъемностью ≥200 кг. 6. Вентиляция: на месте установки требуется надлежащая вентиляция, при необходимости можно установить дополнительную систему воздухообмена или вытяжки. | ||
Основные параметры (Спецификация) | Категория | Спецификация | Замечания |
Вакуумная система | Размер вакуумной камеры: φ295×H265 мм | Камера из нержавеющей стали с превосходной коррозионной стойкостью | |
Комплект вакуумного насоса： · Молекулярный насос: Hipace80 Турбомолекулярный насос · Насос форвакуума: МВП015-2DC Мембранный насос | Оригинальная система Пфайффер с высокой эффективностью откачки | ||
Базовый вакуум: 5,0E-3 Па (5,0E-5 гПа) | Базовый вакуум перед осаждением | ||
Предельный вакуум: 5,0E-4 Па (5,0E-6 гПа) | Влияние окружающей среды и качества герметизации | ||
| Рабочее давление: 0,1~5 Па (0,001~0,05 гПа) | В основном аргон, опционально реактивные газы | ||
Скорость откачки： · Насос форвакуума: 1 м³/ч · Молекулярный насос: 67 л/с | Определяет эффективность времени уборки | ||
| Конфигурация источника питания | Тип и количество мощности： · округ Колумбия (постоянный ток): 2 единицы | Для металлических целей используется постоянный ток, а для изолирующих целей — радиочастотный ток. | |
Диапазон выходной мощности: · Постоянный ток: 0~500 Вт · РЧ: 0~300 Вт | Регулируемая производительность для различных материалов | ||
| Согласующее сопротивление: 50 Ом | Обеспечивает стабильную и эффективную передачу энергии | ||
Газовый контроль | Рабочий газ: Стандартная конфигурация — аргон (Ар) | Рекомендуется использовать аргон чистотой ≥99,999. | |
| Поток газа (2 канала)： · Канал 1: 1–100 см3/мин | Два независимых канала массового расхода, настраиваемые для других газов | ||
Точность расходомера: ±1% полной шкалы | Высокоточная система МФЦ | ||
Вращающийся столик для образцов | Размер предметного столика: Ø132 мм (≈5,2 дюйма) | Совместимость с различными размерами подложек | |
Скорость вращения: 1–20 об/мин | Улучшает однородность пленки | ||
| Температура нагрева: КТ–500°C | Нагрев поверхности основания с постоянным контролем температуры | ||
ТТочность измерения температуры: ±1°C | ПСистема контроля температуры ИДЕНТИФИКАТОР | ||
| Магнетронные мишени | Целевое количество: 3 шт. | Работают индивидуально или одновременно | |
· Размер цели: Ø2 дюйма · Толщина: 0,1–5 мм | Толщина варьируется в зависимости от материала. | ||
| Расстояние от цели до подложки: 85–115 мм, регулируемое | Большее расстояние улучшает равномерность, немного снижает скорость | ||
| Метод охлаждения: водяное охлаждение | Циркуляционная система охлаждения поддерживает заданную температуру | ||
Эффективность осаждения и другие характеристики | Однородность пленки: ±5% (диаметр подложки 100 мм) | В основном определяется расстоянием от мишени до субстрата и скоростью вращения | |
Диапазон толщины пленки: 10 нм–10 мкм | Избыточная толщина может привести к образованию трещин под напряжением. | ||
Максимальная входная мощность: · основной блок: 500 Вт; · ВЧ-источник питания: 1100 Вт; · Источник постоянного тока: 750 Вт | Независимые системы питания для основного блока, ВЧ, постоянного тока и толщиномера. | ||
| Входная мощность： · Однофазный: 220 В переменного тока, 50/60 Гц | Требуется правильное заземление | ||
| Размеры основного блока: · 600мм×750мм×900мм | Высота с открытой крышкой: 1050 мм | ||
Габаритные размеры： · 1300 м×750 мм×900 мм | Включает в себя пространство для управления и насоса | ||
| Общий вес: 160 кг | Без учета системы охлаждения | ||
Стандартные аксессуары
Нет. | Имя | Количество | Изображение |
| 1 | Система управления источником постоянного тока | 2 комплекта | - |
| 2 | Система управления радиочастотным источником питания | 1 комплект | - |
| 3 | Система контроля толщины пленки | 1 комплект | - |
| 4 | Молекулярный насос (импортный из Германии или отечественный с более высокой скоростью откачки) | 1 единица | - |
| 5 | Чиллер | 1 единица | - |
| 6 | Трубка из полиэстера и полиуретана (Ø6 мм) | 4m | - |
Дополнительные аксессуары
| Нет. | Имя | Категория функции | Изображение |
| 1 | Различные мишени (золото, индий, серебро, платина и т. д.) | Необязательный | - |
| 2 | Сильная магнитная мишень (для распыления ферромагнитных материалов) | Необязательный | - |
| 3 | Маска | Необязательный | - |
| 4 | Вибрационный столик для образцов | Необязательный | - |
| 5 | Двухслойное вращающееся приспособление для нанесения покрытия | Необязательный |  |
Гарантия
Ограниченная гарантия на один год с пожизненной поддержкой (не включая ржавые детали из-за ненадлежащих условий хранения)
Логистика
