Высоковакуумный магнетронный плазменный распылитель
1. Входная мощность двухмишенной магнетронной распылительной установки составляет 220 В/50 Гц, а внутренний диаметр полости составляет Ø300 мм.
2. Метод охлаждения мишени в установке магнетронного распыления с двумя мишенями использует водяное охлаждение.
3. Система газового наполнения двухмишенного магнетронного распылительного устройства использует двухходовой массовый расходомер (1-ходовой аргон 100scc, 2-ходовой аргон 200scc). Специальные газы могут быть настроены.
- Shenyang Kejing
- Шэньян, Китай
- 10 рабочих дней
- 50 комплектов
- Информация
Представление двухголовочной магнетронной распылительной установки:
Установка для нанесения покрытий с магнетронным напылением с двойной головкой ВТК-600-2HD-1000 — это новое высоковакуумное оборудование для нанесения покрытий, разработанное нашей компанией. Его можно использовать для подготовки однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок политетрафторэтилена и т. д. Установка для нанесения покрытий с магнетронным напылением с двойной головкой оснащена двумя мишенями и двумя источниками питания, один источник питания ВЧ используется для распыления покрытия непроводящих материалов, а один источник питания постоянного тока используется для распыления покрытия проводящих материалов. Установка для нанесения покрытий с магнетронным напылением с двойной головкой может быть оснащена сильными магнитными мишенями для распыления покрытия ферромагнитных материалов. По сравнению с аналогичным оборудованием установка для нанесения покрытий с магнетронным напылением с двойной головкой имеет такие преимущества, как небольшой размер и простота эксплуатации, а также широкий спектр используемых материалов. Это идеальное оборудование для подготовки пленок из различных материалов в лабораторных условиях.
Преимущества двухголовочной установки плазменного напыления с магнетроном:
1. Двухголовочная установка плазменного магнетронного напыления оснащена двумя мишенными пушками, одна из которых оснащена ВЧ-источником питания для распыления покрытия из непроводящих материалов, а другая — источником питания постоянного тока для распыления покрытия из проводящих материалов.
2. Установка плазменного напыления с двумя головками магнетрона позволяет наносить различные тонкие пленки и имеет широкий спектр применения.
3. Установка плазменного напыления с двумя головками магнетрона имеет небольшие размеры и очень проста в эксплуатации.
Технические параметры установки магнетронного распыления с двойной мишенью:
| Название продукта | Установка для магнетронного распыления с двумя головками ВТК-600-2HD-1000 |
| Модель продукта | ВТК-600-2HD-1000 |
| Условия установки | Данное оборудование необходимо использовать при температуре 25℃±15℃ и влажности 55%резус-фактор±10%резус-фактор. 1. Вода: Оборудование оснащено самоциркулирующей охлаждающей водой (заполненной чистой или деионизированной водой). 2. Электричество: переменный ток 220 В, 50 Гц, должно быть хорошо заземлено. 3. Газ: Камеру оборудования необходимо заполнить аргоном (чистотой более 99,99%), и вам необходимо подготовить собственный баллон с аргоном (с двойным соединительным элементом Ø6 мм) и редукционный клапан. 4. Верстак: размеры 1500мм×600мм×700мм, грузоподъемность более 200кг. 5. Вентиляционное устройство: обязательно. |
| Основные параметры | 1. Входная мощность: 220 В/50 Гц. 2. Количество распыляемых мишеней: 2. 3. Внутренний диаметр камеры: Ø300 мм. 4. Метод охлаждения прицельной пушки: водяное охлаждение. 5. Предельная степень вакуума: 9,0x10-4Па. 6. Характеристики вакуумной камеры: Φ300×330 мм. 7. Вакуумная система: механический насос ВРД-16, турбомолекулярный насос ФФ-100/150. 8. Восстановление вакуума: Система откачивается из атмосферы до 5,0E-3Па≤30 мин (система подвергается воздействию атмосферы в течение короткого времени). 9. Система накачивания: двухходовой массовый расходомер (одноходовой аргон 100 куб. см, двухходовой аргон 200 куб. см). Специальные газы могут быть изготовлены по индивидуальному заказу. 10. Характеристики распыляемой мишени: Φ2", толщина 0,1-5 мм (толщина варьируется в зависимости от материала мишени). 11. Предметный столик: Φ140 мм/вращающийся (1-20 об/мин)/нагреваемый (комнатная температура-1000 ℃). |
| Технические характеристики продукта | Размеры хоста: ширина 900 мм × глубина 650 мм × высота 1100 мм |
О нас:
Прежде чем продукт покинет завод, наши сотрудники проведут комплексное тестирование, чтобы гарантировать точность и стабильность продукта. В то же время у нас также есть профессиональная команда послепродажного обслуживания. Если у вас возникнут какие-либо вопросы о продукте, наша команда ответит вам вовремя, чтобы ваше оборудование могло работать стабильно в течение длительного времени.
