-
Система химического осаждения из паровой фазы с высоким вакуумом и плазменным усилением (ПЭЦВД)
Емкостный ПЭЦВД с параллельными пластинами — это технология, в которой используется плазма для активации химически активных газов для стимулирования химических реакций на поверхности подложки или в приповерхностном пространстве с образованием твердотельных пленок. Основной принцип технологии плазмохимического осаждения из паровой фазы заключается в том, что под действием высокочастотного или постоянного электрического поля исходный газ ионизируется с образованием плазмы, а низкотемпературная плазма используется в качестве источника энергии, соответствующее количество реактивного газа Вводится, а плазменный разряд используется для активации реактивного газа и образования химического осаждения из паровой фазы.
Send Email Детали -
Сферическая импульсная система лазерного напыления
Эта система представляет собой научно-исследовательское оборудование для системы сферического импульсного лазерного осаждения (PLD
). Технология импульсного лазерного осаждения широко используется и может быть использована для получения тонких пленок различных веществ, таких как металлы, полупроводники, оксиды, нитриды, карбиды, бориды, силициды, сульфиды и фториды. Он даже используется для изготовления пленок некоторых трудно синтезируемых материалов, таких как пленки алмаза и кубического нитрида.Send Email Детали
