-
Система химического осаждения из паровой фазы с высоким вакуумом и плазменным усилением (ПЭЦВД)
Емкостный ПЭЦВД с параллельными пластинами — это технология, в которой используется плазма для активации химически активных газов для стимулирования химических реакций на поверхности подложки или в приповерхностном пространстве с образованием твердотельных пленок. Основной принцип технологии плазмохимического осаждения из паровой фазы заключается в том, что под действием высокочастотного или постоянного электрического поля исходный газ ионизируется с образованием плазмы, а низкотемпературная плазма используется в качестве источника энергии, соответствующее количество реактивного газа Вводится, а плазменный разряд используется для активации реактивного газа и образования химического осаждения из паровой фазы.
Send Email Детали -
Система сферического импульсного лазерного осаждения
Эта система представляет собой научно-исследовательское оборудование для системы сферического импульсного лазерного осаждения (ПЛД). Технология импульсного лазерного осаждения широко используется и может быть использована для получения тонких пленок различных веществ, таких как металлы, полупроводники, оксиды, нитриды, карбиды, бориды, силициды, сульфиды и фториды. Его даже используют для приготовления пленок некоторых трудносинтезируемых материалов, таких как пленки алмаза и кубического нитрида.
Send Email Детали
