Внутренняя страница

Система сферического импульсного лазерного осаждения

Эта система представляет собой научно-исследовательское и опытно-конструкторское оборудование для сферической импульсной лазерной осаждения (ПЛД). Технология импульсной лазерной осаждения широко применяется для получения тонких пленок различных веществ, таких как металлы, полупроводники, оксиды, нитриды, карбиды, бориды, силициды, сульфиды и фториды. Она также используется для получения пленок из некоторых трудносинтезируемых материалов, таких как алмазные пленки и пленки кубических нитридов.

  • Shenyang Kejing
  • Шэньян, Китай
  • 44 рабочих дня
  • 50 комплектов
  • Информация

Введение в продукт

TheСистема сферического импульсного лазерного осаждения (ПЛД)— это высокопроизводительная научно-исследовательская платформа, разработанная для передовых технологий производства тонких плёнок. Импульсное лазерное осаждение (ПЛД) — это метод, при котором высокоэнергетический лазерный луч фокусируется на небольшой участок материала мишени. Высокая плотность энергии испаряет или ионизирует часть материала мишени, заставляя выброшенный материал перемещаться к подложке, где он конденсируется, образуя тонкую плёнку.

Среди различных методов получения тонких плёнок метод импульсного лазерного осаждения (ПЛД) широко применяется для осаждения широкого спектра материалов, включая металлы, полупроводники, оксиды, нитриды, карбиды, бориды, силициды, сульфиды и фториды. Этот метод также позволяет получать плёнки из материалов, которые сложно синтезировать другими способами, таких как алмаз и кубический нитрид бора (c-БН).

Theсферическая система ПЛДКамера имеет сферическую конструкцию вакуума и использует высокоэнергетические лазерные импульсы (мощностью < 4 кВт) для точного испарения мишени, обеспечивая равномерное осаждение тонких плёнок металлов, оксидов и нитридов. Высокий вакуум гарантирует исключительную чистоту плёнки. Четырехпозиционный вращающийся узел мишени позволяет последовательно наносить несколько материалов без нарушения вакуума.

Система, изготовленная из нержавеющей стали, оснащена камерой со смотровым окном и газовым напуском, контролируемым МФЦ, и позволяет проводить эксперименты с тугоплавкими материалами, такими как алмаз и кубические нитриды. Это оборудование идеально подходит для университетов и научно-исследовательских институтов, занимающихся высокотехнологичными исследованиями тонких пленок, особенно требующими строгого контроля состава и микроструктуры пленок.


Основные характеристики

1. Конструкция сферической вакуумной камеры:Изготовлен из нержавеющей стали марки 304 с использованием аргонодуговой сварки, обеспечивает эффективный диаметр камеры Φ300 мм. Оснащен окном для наблюдения за ходом эксперимента в режиме реального времени.

2. Сверхвысокие вакуумные характеристики:Обеспечивает чрезвычайно высокий предельный вакуум, высокую скорость откачки и низкую скорость утечки.

3. Точное лазерное напыление:Использует высокоэнергетические лазерные импульсы (<4 кВт) для испарения целевых материалов, обеспечивая осаждение тонких пленок металлов, оксидов, нитридов и других сложных материалов.

4. Вращающаяся система с четырьмя целями:Оснащен планетарным и самовращающимся механизмом с экспозицией одной цели через затвор, что позволяет осуществлять непрерывное осаждение нескольких материалов.

5. Высокотемпературный держатель подложки:Обеспечивает точный контроль температуры и регулируемую скорость вращения для удовлетворения сложных технологических требований.

6. Совместимость исследовательского уровня:Возможность подготовки тугоплавких материалов, таких как алмазные и кубические нитридные пленки, идеально подходящих для передовых исследований и разработок в области материалов.

7. Интеллектуальная конфигурация безопасности:Оснащена встроенными системами выпечки, освещения и сигнализации давления воды; впуск газа, контролируемый МФЦ (0–100 см3/мин), обеспечивает стабильные условия процесса.

8. Возможность быстрого восстановления:Поддерживает вакуум ≤20 Па после 12-часового отключения насоса, повышая эффективность эксперимента.

9. Модульная структура:Регулируемое расстояние между держателем подложки и вращающейся целевой системой для гибкой адаптации к различным установкам осаждения.

10. Оптимизировано для мелкосерийного производства:Подходит для университетов и научно-исследовательских институтов, совмещающих поисковые исследования с точным изготовлением тонкопленочных изделий.


ТТехнические параметры

Название продукта

Система сферического импульсного лазерного осаждения (ПЛД)

Условия установки

1. Температура окружающей среды: 10℃~35℃

2. Относительная влажность воздуха: не более 75%

3. Электропитание: 220 В, однофазное, 50±0,5 Гц

4. Мощность оборудования: менее 4 кВт

5. Водоснабжение: давление воды 0,2 МПа~0,4 МПа, температура воды 15℃~25℃,

6. Окружающая среда оборудования должна быть чистой, воздух должен быть чистым, не должно быть пыли или газа, которые могут вызвать коррозию электроприборов или других металлических поверхностей или стать причиной проводимости между металлами.

Основные параметры

(Спецификация)

1. Система имеет сферическую конструкцию и ручную входную дверь.

2. Все компоненты и принадлежности вакуумной камеры изготовлены из высококачественной нержавеющей стали (304), сварены аргонодуговой сваркой, а поверхность обработана стеклоструйной очисткой, электрохимической полировкой и пассивацией.

3. Вакуумная камера оснащена окном визуального наблюдения. Эффективный размер вакуумной камеры составляет Φ300 мм.

4. Предел степени вакуума: ≤6,67×10-5Па (После прокаливания и дегазации используйте молекулярный насос 600 л/с для откачки воздуха и 8 л/с для передней ступени);

    · Скорость утечки вакуума в системе обнаружения утечек: ≤5,0×10-7Па.Л/С; 

    · Система начинает откачивать воздух из атмосферы до 8,0×10-4Па, до которого можно добраться за 40 минут; 

    · Степень вакуума после остановки насоса на 12 часов: ≤20 Па

5. Предметный столик: размер образца составляет φ40 мм, скорость вращения составляет 1–20 об/мин, расстояние между предметным столиком и целью вращения составляет 40–90 мм.

6. Максимальная температура нагрева образца: 800 ℃, точность контроля температуры: ±1 ℃, для контроля температуры используется измеритель температуры.

7. Четырехпозиционная вращающаяся мишень: каждая позиция мишени имеет диаметр 40 мм, на перегородке/заслонке отображается только одна позиция мишени, лазерный луч должен попадать в верхнюю позицию мишени, а вращающаяся мишень имеет функции вращения и авторотации.

8. В вакуумной камере установлены приборы для выпечки, освещения и сигнализации давления воды.

9. Односторонний массовый расходомер МФЦ (для контроля всасываемого воздуха): 0-100 см3/мин



Гарантия

    Ограниченная гарантия на один год с пожизненной поддержкой (не включая ржавые детали из-за ненадлежащих условий хранения)



Логистика

Laser Deposition System


Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.