Внутренняя страница

Высоковакуумный магнетронный распылительный прибор

1. Эта установка магнетронного распыления в высоком вакууме разработана нами самостоятельно, а процесс подготовки интуитивно понятен и управляем.
2. Высоковакуумная установка магнетронного распыления может быть оснащена несколькими мишенными пушками и заменяться по мере необходимости.
3. Высоковакуумная установка магнетронного распыления отличается высокой адаптивностью и хорошей эффективностью, значительно превосходящей аналогичные типы продукции в той же отрасли.

  • Shenyang Kejing
  • Шэньян, Китай
  • 22 рабочих дня
  • 50 комплектов
  • Информация

Внедрение оборудования для магнетронного распыления:

Установка для магнетронного распыления ВТК-600G в высоком вакууме представляет собой новое, независимо разработанное оборудование для нанесения покрытий, которое может использоваться для подготовки однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок из сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок политетрафторэтилена и т. д. Установка для магнетронного распыления ВТК-600G может быть оснащена несколькими мишенными пушками, а соответствующий источник питания ВЧ используется для распыления покрытия непроводящих материалов мишеней, а соответствующий источник питания постоянного тока используется для распыления покрытия проводящих материалов. По сравнению с аналогичным оборудованием, установка для магнетронного распыления не только широко используется, но и обладает преимуществами компактных размеров и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для лабораторной подготовки пленок материалов, особенно подходящее для лабораторных исследований твердых электролитов и органических светодиодов.


High vacuum magnetron sputtering coater


Основные характеристики оборудования для магнетронного распыления:

· Вакуумный магнетронный распылительный прибор может быть оснащен несколькими мишенными пушками, а соответствующий источник питания ВЧ используется для распыления покрытия непроводящих материалов мишени, а соответствующий источник питания постоянного тока используется для распыления покрытия проводящих материалов (мишень может быть заменена по желанию в соответствии с потребностями заказчика).

·Установка вакуумного магнетронного распыления позволяет получать разнообразные тонкие пленки и широко применяется.

·Установка вакуумного магнетронного распыления имеет небольшие размеры и проста в эксплуатации.

·Вся машина имеет модульную конструкцию, а вакуумная камера, группа вакуумного насоса и блок питания управления представляют собой раздельные конструкции, которые можно регулировать в соответствии с фактическими потребностями пользователей.

·Блок питания можно выбрать в соответствии с реальными потребностями пользователя. Один блок питания может управлять несколькими мишенями, или несколько блоков питания могут управлять одной мишенью.


Технические параметры вакуумного магнетронного распылительного прибора:

Название продукта

Высоковакуумный магнетронный распылительный прибор ВТК-600G

Модель продукта

ВТК-600G

Основные параметры

1. Конструкция: конструкция передней двери рабочего стола, задняя выхлопная система.

2. Предельный вакуум: 6,0×10-5Хорошо.

3. Скорость утечки: метры 1ч≤0,5Па.

4. Время выхлопа составляет около 20 минут из атмосферы до 5,0×10-3.

5. Группа вакуумных насосов: механический насос + молекулярный насос.

6. Предметный столик: φ140, комнатная температура -500 ℃, точность ±1 ℃ (температура может быть увеличена в соответствии с фактическими потребностями), регулируемая скорость вращения в диапазоне 5–20 об/мин. Функция смещения может быть добавлена ​​по требованию заказчика для достижения более высокого качества покрытия.

7. Система газонаполнения: 2 массовых расходомера (аргон/азот каждый).

8. Угол между головкой мишени и центральной осью предметного столика составляет 34°.

9. Количество целевых головок: 3 (120° друг к другу).

10. Метод охлаждения прицельной пушки: водяное охлаждение.

11. Размер целевого материала: φ2″, толщина 0,1–5 мм (толщина варьируется в зависимости от материала мишени).

12. Технические характеристики продукта:

      · Габариты машины в сборе: 700 мм×852 мм×1529 мм;

Magnetron sputtering equipment


Дополнительные принадлежности оборудования магнетронного распыления:

НЕТ.

Имя

Функция

Картина

1

Перегородка для образца

(необязательный)

Vacuum magnetron sputtering instrument


Гарантия:

Ограниченная гарантия на один год с пожизненной поддержкой (не включая ржавые детали из-за ненадлежащих условий хранения)


Логистика:

High vacuum magnetron sputtering coater


О нас:

Мы — высокотехнологичная компания, специализирующаяся на исследованиях, разработках и производстве оборудования для нанесения покрытий, и являемся лидером в своей отрасли. Каждый наш продукт тщательно спроектирован и проходит строгие испытания конструкторами, обладая высокой производительностью и точностью. Мы уделяем внимание не только самому продукту, но и технологическим инновациям, а также взаимоотношениям с клиентами, стремясь предоставлять клиентам по всему миру высококачественное экспериментальное оборудование.


Magnetron sputtering equipment

Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.