Внутренняя страница

Высоковакуумный магнетронный распылительный прибор

1. Эта установка для нанесения покрытий методом магнетронного распыления в высоком вакууме разработана нами самостоятельно, а процесс подготовки интуитивно понятен и управляем.
2. Высоковакуумная установка магнетронного распыления может быть оснащена несколькими мишенями и заменяться по мере необходимости.
3. Высоковакуумная установка магнетронного распыления отличается высокой адаптивностью и хорошей эффективностью, значительно превосходящей аналогичные типы продукции в той же отрасли.

  • Shenyang Kejing
  • Шэньян, Китай
  • 22 рабочих дня
  • 50 комплектов
  • Информация

Внедрение оборудования для магнетронного распыления:

Высоковакуумная установка для магнетронного распыления ВТК-600G — это новое независимо разработанное оборудование для нанесения покрытий, которое может использоваться для подготовки однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок политетрафторэтилена и т. д. Оборудование для магнетронного распыления ВТК-600G может быть оснащено несколькими мишенными пушками, а соответствующий источник питания РФ используется для распыления покрытия непроводящих целевых материалов, а соответствующий источник питания округ Колумбия используется для распыления покрытия проводящих материалов. По сравнению с аналогичным оборудованием, оборудование для магнетронного распыления не только широко используется, но и имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации. Это идеальное оборудование для лабораторной подготовки пленок материалов, особенно подходящее для лабораторных исследований твердых электролитов и OLED.


High vacuum magnetron sputtering coater


Основные характеристики оборудования магнетронного распыления:

· Вакуумный магнетронный распылительный прибор может быть оснащен несколькими мишенными пушками, а соответствующий источник питания ВЧ используется для распыления покрытия непроводящих целевых материалов, а соответствующий источник питания постоянного тока используется для распыления покрытия проводящих материалов (мишень может быть заменена по желанию в соответствии с потребностями заказчика).

·Установка вакуумного магнетронного распыления позволяет получать различные тонкие пленки и широко применяется.

·Установка вакуумного магнетронного распыления имеет небольшие размеры и проста в эксплуатации.

·Вся машина имеет модульную конструкцию, а вакуумная камера, группа вакуумных насосов и блок питания управления представляют собой раздельные конструкции, которые можно регулировать в соответствии с фактическими потребностями пользователей.

·Блок питания можно выбрать в соответствии с реальными потребностями пользователя. Один блок питания может управлять несколькими целевыми пушками, или несколько блоков питания могут управлять одной целевой пушкой.


Технические параметры вакуумного магнетронного распылительного прибора:

Название продукта

ВТК-600G Высоковакуумный магнетронный распылительный прибор

Модель продукта

ВТС-600Г

Основные параметры

1. Структура: передняя дверная конструкция рабочего стола, задняя выхлопная система.

2. Предельный вакуум: 6,0X10-5Па.

3. Скорость утечки: 1ч≤0,5Па.

4. Время выхлопа составляет около 20 минут из атмосферы до 5,0X10-3.

5. Группа вакуумных насосов: механический насос + молекулярный насос.

6. Образец столика: φ140, комнатная температура -500℃, точность ±1℃ (температура может быть увеличена в соответствии с фактическими потребностями), вращение регулируется в пределах 5-20 об/мин. Функция смещения может быть добавлена ​​в соответствии с потребностями клиента для достижения более высокого качества покрытия.

7. Система газонаполнения: 2 массовых расходомера (аргон/азот каждый).

8. Угол между головкой мишени и центральной осью предметного столика составляет 34°.

9. Количество целевых головок: 3 (120° друг к другу).

10. Метод охлаждения прицельной пушки: водяное охлаждение.

11. Размер материала мишени: φ2″, толщина 0,1–5 мм (толщина варьируется в зависимости от материала мишени).

12. Технические характеристики продукта:

· Размеры:

Габариты машины в сборе: 700 мм×852 мм×1529 мм;

Magnetron sputtering equipment


Дополнительные принадлежности оборудования магнетронного распыления:

НЕТ.

Имя

Функция

Картина

1

Перегородка для образца

(необязательный)

Vacuum magnetron sputtering instrument


Гарантия:

Ограничение на один год с пожизненной поддержкой (не включая детали, заржавевшие из-за ненадлежащих условий хранения)


Логистика:

High vacuum magnetron sputtering coater


О нас:

Мы являемся высокотехнологичной компанией, которая специализируется на исследованиях, разработках и производстве машин для нанесения покрытий, а также являемся лидером в отрасли. Каждый из наших продуктов был тщательно спроектирован и строго протестирован конструкторами и имеет высокий уровень производительности и точности оборудования. Мы не только фокусируемся на самом продукте, но и уделяем внимание технологическим инновациям и отношениям с клиентами, и стремимся предоставлять высококлассные экспериментальные приборы глобальным клиентам.


Magnetron sputtering equipment

Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.