Внутренняя страница

Прибор для плазменного распыления тонких пленок

1. Установка для напыления тонких пленок специально разработана для получения металлических покрытий, таких как золото, платина, индий, серебро и т. д., и обладает высокой степенью адаптивности.
2. Установка для напыления тонких пленок изготовлена нашей компанией самостоятельно с использованием высокопрочных материалов и может эксплуатироваться в течение длительного времени.
3. Установка для напыления тонких пленок оснащена панелью управления, которая позволяет устанавливать рабочее время и величину тока, а также облегчает управление экспериментальным процессом.

  • Shenyang Kejing
  • Шэньян, Китай
  • 10 рабочих дней
  • 50 комплектов
  • Информация

Введение Настольный магнетронный плазменный напылительный аппарат:

Настольный магнетронно-плазменный напылительный аппарат ГСЛ-1100X-СПЦ-12 специально разработан для нанесения металлических пленок (золота, платины, индия, серебра и т.д.) на подложки. Максимальный диаметр образца составляет 40 мм, а толщина пленки может достигать 300 Å. Он особенно подходит для нанесения золотого покрытия на образцы для сканирующего электронного микроскопа (СЭМ) в качестве проводящего электрода.

Thin Films Sputtering Machine

Характеристики настольного магнетронного плазменного напылительного аппарата:

1. Изделие позволяет регулировать ток и устанавливать время распыления.

2. Изделие прошло сертификацию CE и соответствует международным стандартам.


Технические параметры установки для напыления тонких пленок:

Модель продуктаУстановка плазменного напыления тонких пленок ГСЛ-1100X-СПЦ-12
яусловия установки

Данное оборудование необходимо использовать при температуре 25℃±15℃ и влажности 55%резус-фактор±10%резус-фактор.

1. Вода: Не требуется.

2. Электричество: переменный ток 220 В, 50 Гц, должно быть хорошо заземлено.

3. Газ: Для очистки камеру оборудования необходимо заполнить аргоном (чистотой более 99,99%), при этом вам необходимо привезти с собой собственный баллон с аргоном.

4. Верстак: размеры 600мм×600мм×700мм, грузоподъемность более 50кг.

5. Вентиляционное устройство: обязательно.

Технические параметры мини-установки плазменного напыления

1. Входная мощность мини-установки плазменного напыления: 208 В-240 В 50 Гц/60 Гц.

2. Предметный столик: Ø60 мм, регулируемый по высоте.

3. Кварцевая полость: Ø100мм×130мм.

4. Воздухозаборник: Внутри имеется клапан, который можно использовать для подачи в полость различных газов.

5. Мишень: Золотая мишень чистотой 4N, Ø57 мм×0,12 мм.

Mini Plasma Sputtering CoaterDesktop magnetron plasma sputtering coater machine

Технические характеристики мини-установки плазменного напыления

Размеры: 480 мм × 320 мм × 150 мм; Вес: 20 кг
Дополнительные аксессуары для мини-плазменного напылительного оборудования

1. Ау (Ø57 мм×0,12 мм, 4N)

2. Платина (Ø57 мм×0,12 мм, 4 Н)

3. Аг (Ø57мм×0,5мм, 4Н)


О наших преимуществах:

1. Независимые НИОКР и производственные возможности:

Компания Шэньян Кеджинг располагает независимыми научно-исследовательскими и производственными мощностями. Все технологии разрабатываются внутри компании, что гарантирует качество продукции и технологическое лидерство.

2. Эффективное обслуживание клиентов:

Компания фокусируется на потребностях клиентов, предоставляет индивидуальные решения и может быстро реагировать на потребности клиентов в технической поддержке, улучшая качество обслуживания и удовлетворенность клиентов.

3. Большой опыт работы в отрасли:

Компания Шэньян Кеджинг накопила богатый опыт во многих отраслях промышленности, особенно в сфере высокоточного оборудования и технологических инноваций, помогая клиентам повышать эффективность производства и технический уровень.


Thin Films Sputtering Machine

Получить последнюю цену? Мы ответим как можно скорее (в течение 12 часов)
This field is required
This field is required
Required and valid email address
This field is required
This field is required
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.