-
Плазменный очиститель с вакуумным насосом
Плазменная камера малого плазмоочистителя ПКЭ-6 представляет собой кварцевую камеру Ø160×190 мм. Используемая радиочастотная мощность составляет 3,0 МГц (1%), а выходная мощность регулируется на трех уровнях: 7,2 Вт, 10,2 Вт и 29,6 Вт. Эта машина в основном удаляет оксидный слой и загрязнения с подложек посредством плазмы воздуха, кислорода или аргона и других газов, а также может изменять свойства поверхности объектов (например, гидрофильность и гидрофобность и т. д.).
Send Email Детали -
Плазменный очиститель с источником высокой мощности РФ
Маленький плазменный очиститель ПКЭ-6V сочетает в себе технологию генерации радиочастотной плазмы, технологию компьютерного управления и технологию программного программирования, а также использует газ в качестве очищающей среды, что эффективно предотвращает вторичное загрязнение, вызванное жидким чистящим средством. Столик для образцов небольшого плазменного очистителя ПКЭ-6V может быть оснащен функцией нагрева, а для плазменного травления образца может быть подано отрицательное напряжение смещения. Кроме того, он может изменять свойства определенных поверхностей материалов по мере необходимости в конкретных условиях.
Send Email Детали -
Система атмосферной плазменной струи (плазменная ручка)
Прибор для плазменной обработки поверхности ГСЛ-1100X-ПДЖФ-(A) представляет собой компактную систему атмосферной плазменной струи для обработки поверхности. Она в основном состоит из радиочастотного генератора и плазменной головки. Струйный плазменный луч может активировать и очищать поверхность материалов (таких как отдельные пластины, оптические компоненты, пластмассы и т. д.) в условиях более низкой температуры и отсутствия вакуума.
Send Email Детали -
Атмосферный плазменный луч с автоматической системой сканирования
Прибор для плазменной обработки поверхности ГСЛ-1100X-ПДЖФ-A представляет собой компактную систему атмосферной плазменной струи для обработки поверхности. Она в основном состоит из радиочастотного генератора и плазменной головки. Струйный плазменный луч может активировать и очищать поверхность материалов (таких как отдельные пластины, оптические компоненты, пластмассы и т. д.) при более низкой температуре и в условиях отсутствия вакуума, а скорость очистки высокая.
Send Email Детали
