Шэньян Кэцзин

Шэньян Кэцзин

Читать Далее
Алмазная канатная пила

Алмазная канатная пила

Читать Далее
Шлифовально-полировальный станок

Шлифовально-полировальный станок

Читать Далее
  • 2000 г. Время основания
  • 100+ Количество сотрудников
  • 14000 м² Фабрика Крытая

Командная служба

ПОСЛЕПРОДАЖНОЕ ОБСЛУЖИВАНИЕ
ПОДДЕРЖКА ВНЕДРЕНИЯ
ЗАКАЗАТЬ ДОСТАВКУ
ПОДТВЕРЖДЕНИЕ ЗАКАЗА
РЕШЕНИЕ

Hовости

Какие факторы влияют на высоковакуумное магнетронное распыление?

Какие факторы влияют на высоковакуумное магнетронное распыление?

2025/03/20

На основе базового магнетронного распыления вводятся среда высокого вакуума и роста высокой температуры, а плазменная технология объединяется для повышения эффективности реакции реактивного осаждения, чтобы реализовать эпитаксию пленки магнетронного распыления. Пленка, полученная в условиях высокого вакуума, имеет лучшую ориентацию решетки и более выдающиеся кристаллические свойства. Она имеет широкий спектр применения в сверхпроводящих квантовых, сегнетоэлектрических материалах, пьезоэлектрических материалах, термоэлектрических материалах и других областях. Состояние высокого вакуума помогает уменьшить влияние примесей и гарантировать, что распыленные частицы не будут реагировать неблагоприятно с другими газами во время процесса осаждения.

Партнер

39
38
37
36
35
34
33
32
31
30
29
28
27
26
25
24
23
22
21
20
19
18
17
16
15
14
13
12
11
10
9
8
7
6
5
4
3
2
1

Предоставить вам профессиональные решения

Читать Далее

Отправить запрос сейчас!

получить цитату
For a better browsing experience, we recommend that you use Chrome, Firefox, Safari and Edge browsers.