Высоковакуумный магнетронный распылитель
1. Предельный вакуум напылительной установки с одной головкой может достигать 8,0X10-5 Па.
2. Установка для напыления с одной головкой оснащена 1 испарительной нагревательной лодочкой, 2 станциями лучевой печи (1 лучевая печь входит в стандартную комплектацию), 1 комплектом расходомеров (один комплект для аргона) со стеклянным смотровым окном φ150.
3. После того, как вы получите установку напыления с одной головкой, мы также предоставим вам комплексное послепродажное обслуживание, включая дистанционное управление.
- Shenyang Kejing
- Шэньян, Китай
- 10 рабочих дней
- 50 комплектов
- Информация
Внедрение высоковакуумной установки магнетронного распыления:
Высоковакуумная установка магнетронного распыления ВТК-1HD-ЗФ2 – это многофункциональное высоковакуумное оборудование для нанесения покрытий, включающее установку для магнетронного распыления с одной мишенью. Высоковакуумная установка магнетронного распыления может использоваться для получения однослойных и многослойных сегнетоэлектрических, проводящих, сплавных, полупроводниковых, керамических, диэлектрических, оптических, оксидных, твердых пленок, политетрафторэтиленовых пленок и т.д.
Преимущества установки магнетронного плазменного напыления:
1. Установка плазменного магнетронного напыления оснащена нагревательным лодочкой для парового осаждения, которая особенно подходит для парового осаждения металлических пленок, чувствительных к кислороду (таких как Ти, Эл, Ау и т.д.). Над нагревательным лодочкой установки плазменного магнетронного напыления расположена вращающаяся перегородка, 2 станции с источником пучка (1 печь с источником пучка входит в стандартную комплектацию). 1 комплект расходомеров (один комплект для аргона) со стеклянным смотровым окном φ150.
2. Область применения установки плазменного напыления магнетрона: изготовление устройств из перовскитных материалов, двумерных материалов, фотоэлектрических солнечных элементов и т. д.
3.3. Установка для напыления с одной головкой, входное напряжение: 220 В переменного тока, 50 Гц. Мощность <3,5 кВт.
Технические параметры установки магнетронного плазменного напыления:
| Название продукта | Установка магнетронного напыления высокого вакуума ВТК-1HD-ЗФ2 | |
| Модель продукта | ВТК-1HD-ЗФ2 | |
| Основные параметры | 1. Вакуумная камера: φ324×330 Предельный вакуум 8.0×10-5Па (молекулярная насосная система) Скорость утечки: 2,0×10-10Па.м3/с Материал - нержавеющая сталь 304, сварка, электрохимическая полировка поверхности. Активная часть герметизирована резиновым уплотнительным кольцом, а неактивная часть — медным уплотнительным кольцом. В качестве силовой передачи используется магнитная муфта. Вакуумная камера имеет целевое положение магнитного управления, набор испарительных электродов (два) и 2 положения печи с источником пучка (стандартная печь с 1 источником пучка). Зарезервирован один комплект расходомеров (один комплект аргонового газа) со стеклянным смотровым окном φ150 и фланцевым интерфейсом C35. | |
2. Головка мишени распыления: 2 дюйма (φ50,8 мм) Рабочий вакуум: 10Па~0,2Па. Коэффициент использования материала мишени: ссшш35% (стандартная медная мишень 3 мм, вакуум на поверхности мишени 0,5 Па) МАКСИМАЛЬНАЯ мощность: <240 Вт (полностью охлажденный) Напряжение изоляции: ＞2000 В (с источником питания постоянного тока мощностью 1 500 Вт) | ||
3. Резистивное испарение: Выходное напряжение испарения: переменный ток 0-8 В, плавная регулировка. Предельный ток испарения 200А. Предельная мощность испарения <1,6 кВт. Температура не поддается контролю и измерению. | ||
4. Печь с источником пучка: Вместимость тигля: 3 см3. Температура нагрева: от комнатной температуры до 700°С. Температуру нагрева можно измерять, регулировать и контролировать. Точность регулирования температуры: ±0,5°C. Кварцевый тигель с перегородкой и термопарой в стандартной комплектации. Электропитание: 500 Вт, 36 В. | ||
5. Предметный столик: φ120. Регулирование температуры: комнатная температура - 500°С. Скорость: 1-20 об/мин. Предметный столик можно поднимать и опускать вручную, максимальный регулируемый ход составляет 50 мм. | ||
6. Измеритель толщины пленки эквалайзер-ТМ106-1. 1) Питание: 5 В постоянного тока (±10%), максимальный ток 400 мА. 2) Частотное разрешение: ±0,03 Гц. 3) Разрешение по толщине пленки: 0,0136Å (алюминий). 4) Точность измерения толщины пленки: ±0,5% в зависимости от условий процесса, особенно положения датчика, напряжения материала, температуры и плотности. 5) Скорость измерения: 100мс-1с/время, регулируемая. 6) Диапазон измерения: 500000Å (алюминий). 7) Стандартный кристалл датчика: 6 МГц. 8) Интерфейс компьютера: последовательный интерфейс РС-232/485 (скорость передачи данных: 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400 бод, бит данных: 8, стоповый бит: 1, проверка: отсутствует) 9) Аналоговый выход: разрешение 8 бит, широтно-импульсная модуляция (ШИМ) (открытый коллектор или внутренний выход 5 В) 10) Рабочая среда: температура 0-50℃, влажность 5%-85% относительной влажности, без конденсации. 11) Размеры: 90мм×50мм×18мм. | ||
| 7. Оборудование стандартно оснащено чиллером (модель КДж5000). Заказчику необходимо предоставить собственный чиллер и деионизированную или очищенную воду. | ||
| 8. Потребляемая мощность всего оборудования: переменный ток 220 В/50 Гц. Мощность <3,5 кВт. | ||
9. Технические характеристики продукта: Размер: около 1100мм×650мм×1100мм. Вес: около 160 кг. |
| |
О нас:
Мы располагаем передовым производственным оборудованием и строгой системой контроля качества, что гарантирует соответствие каждого продукта международным стандартам. В частности, наша установка для напыления с одной головкой особенно подходит для испарения металлических пленок, чувствительных к кислороду. Она отличается стабильной производительностью и широко используется в области материаловедения. Наша команда НИОКР постоянно внедряет инновации, учитывая потребности рынка и отзывы клиентов для создания более точных и эффективных решений. Благодаря многолетнему опыту работы в отрасли и накопленным техническим знаниям мы не только заслужили хорошую репутацию в отрасли, но и завоевали высокое признание у многих клиентов.
