Система химического осаждения из паровой фазы с высоким вакуумом и плазменным усилением (ПЭЦВД)

Емкостный ПЭЦВД с параллельными пластинами — это технология, в которой используется плазма для активации химически активных газов для стимулирования химических реакций на поверхности подложки или в приповерхностном пространстве с образованием твердотельных пленок. Основной принцип технологии плазмохимического осаждения из паровой фазы заключается в том, что под действием высокочастотного или постоянного электрического поля исходный газ ионизируется с образованием плазмы, а низкотемпературная плазма используется в качестве источника энергии, соответствующее количество реактивного газа Вводится, а плазменный разряд используется для активации реактивного газа и образования химического осаждения из паровой фазы.