В чем разница между постоянным током, промежуточной частотой и радиочастотой при распылении?

Возникновение и применение технологии распыления прошло много этапов. После более чем 30 лет развития технология магнетронного распыления превратилась в незаменимый метод для оптических, электрических и других функциональных тонких пленок.Как много вы знаете о них?

Магнетронное распыление относится к введению магнитного поля между двумя полюсами внешнего электрического поля. В то время как электроны подвергаются воздействию силы электрического поля, они также связаны магнитной силой Лоренца, которая изменяет траекторию их движения с исходной прямой на циклоиду, тем самым увеличивая вероятность столкновения высокоскоростных электронов с молекулами аргона, что может значительно увеличить степень ионизации молекул аргона, тем самым уменьшая давление рабочего газа. Под ускорением высоковольтного электрического поля ионы Ар бомбардируют поверхность целевого материала, заставляя больше атомов или молекул на поверхности целевого материала отрываться от исходной решетки и выплескиваться из целевого материала, чтобы лететь к подложке, а высокоскоростное воздействие и осаждение на подложке образуют тонкую пленку. Магнетронное распыление имеет характеристики высокой скорости формирования пленки, низкой температуры листа, хорошей адгезии пленки и покрытия большой площади.

Магнетронное распыление подразделяется на распыление постоянным током, среднечастотное распыление и радиочастотное распыление：

1. Распыление постоянного тока: использование электрического поля постоянного тока для ускорения ионов газа для бомбардировки целевого материала, так что атомы мишени распыляются и осаждаются на подложке, образуя тонкую пленку. Принцип работы оборудования для распыления постоянного тока прост, а его скорость также высока при распылении металлов.

2. Среднечастотное распыление: использование источника переменного тока с частотой от десятков кГц до сотен кГц для передачи энергии плазме через емкостную связь или индуктивную связь. Энергия бомбардировки ионами выше, чем при распылении постоянным током, что может сделать скорость осаждения более стабильной и однородной и подходит для получения высококачественных пленок.

3. ВЧ-распыление: ВЧ-мощность используется для ионизации материала мишени, а генерируемая плазма более стабильна. Энергия бомбардировки ионами выше, чем при среднечастотном распылении. Можно распылять все типы материалов мишени, включая проводящие, полупроводниковые и изоляционные материалы. Практически отсутствует дугообразование, а качество пленки высокое.

Прибор для магнетронного распыления с тремя мишенямиПроизводимая нашей компанией, оснащена тремя мишенями и тремя источниками питания, одним источником питания РФ для распыления покрытия непроводящих материалов, одним источником питания округ Колумбия для распыления покрытия проводящих материалов и дополнительной сильной магнитной мишенью для распыления покрытия ферромагнитных материалов. По сравнению с аналогичным оборудованием,Прибор для магнетронного распыления с тремя мишенями имеет преимущества небольшого размера и простоты эксплуатации, а также широкий спектр материалов, которые могут быть использованы. Его можно использовать для приготовления однослойных или многослойных сегнетоэлектрических пленок, проводящих пленок, пленок сплавов, полупроводниковых пленок, керамических пленок, диэлектрических пленок, оптических пленок, оксидных пленок, твердых пленок, пленок политетрафторэтилена и т. д.Прибор для магнетронного распыления с тремя мишенямияидеальное оборудование для подготовки пленок из различных материалов в лабораторных условиях.